少许未处置的尘埃微粒或气体份子可以或许严峻影响一些工艺流程。请设想一下净化的氛围对半导体这类高度敏感的制作工艺流程可以或许发生甚么样的风险。
在半导体出产中，前沿的出产手艺须要干净度很高的氛围，并且这一干净度请求还在不时进步。凡是请求晶圆出产情况的尘埃粒径要小于25nm（2009年），今朝这一粒径值还在减小，估计到2017年将减小到10nm。气载份子净化物（AMC）也是高等晶圆厂存眷的题目。良多气载份子净化物（AMC）都被证明会影响产物良率。比方，酸性气体味侵蚀硬盘或晶圆，可凝性无机物的沉降和低浓度氨气的存在会影响出产操纵。
干净室的重心便是氛围过滤装备，按照差别的干净室范例，须要斟酌利用差别的过滤装备。
凭仗15年以上的微电子和半导体净化节制手艺行业经历以，嘉科可以或许供给公道的干净氛围处理计划。使以下工艺获得掩护:
晶圆及半导体
微电子工艺装备
硬盘驱动
印刷电路板
平板显现
太阳能面板
